描述:全自動干法激光粒度分析儀是用于測量干燥狀態(tài)下的粉體或顆粒物料粒徑分布的專業(yè)設備。與濕法相比,干法測量避免了樣品制備過程中的溶劑使用,更加適合那些易溶解、易反應或者需要保持原始狀態(tài)的樣品。
全自動干法激光粒度分析儀采用國際的Mie氏散射原理和正反傅立葉變換光路,傅里葉準直鏡頭+濾波鏡頭+標準傅里葉變換鏡頭三鏡頭技術的采用保證了儀器的測量精度,高密度陣列探頭及全量程無縫銜接測試方法,保證了測試結果的準確性和重復性。特別的干法進樣分散系統(tǒng)采取了管道無殘留設計,保證顆粒測試過程中無顆粒沉積現(xiàn)象,不但證了測試不同樣品的準確性,還保證了第二次測試精度。測試過程全部自動完成無需任何手動操作,測試結果更加穩(wěn)定﹑準確、可靠。
產品特點:
無溶劑污染:無需使用液體介質,減少了化學試劑的消耗和環(huán)境污染。
寬廣的測量范圍:從納米級到毫米級的顆粒都可以測量,適應性強。
快速高效:能夠在較短時間內完成樣品的測試,提高實驗效率。
易于操作:大多數(shù)現(xiàn)代干法激光粒度分析儀都配備了友好的用戶界面,使得操作更加簡便。
自動化程度高:從樣品準備到結果輸出,整個過程均可實現(xiàn)自動化,降低了人為誤差。
產品參數(shù):全自動干法激光粒度分析儀
測量原理:全量程激光衍射;
粒徑范圍:0.1um~800um(全量程測試);
探測系統(tǒng):76通道均勻交叉及面積補償多方位陣列;
激光器:進口大功率光纖輸出半導體激光器,波長635nm、功率最大20mw;
光學模型:全量程全部米氏散射理論,包含高濃度多重散射動態(tài)補償技術;
濾波方式:三鏡頭技術,正.反傅里葉變換鏡頭+濾波鏡頭;
采集主板:16bit,200kps超高速采集主板,全新一代同時采集主板;
濃度范圍:遮光度3%,最高遮光度90%(光學濃度);
鏡頭:特殊鍍膜工藝處理,光信號透過率>99.7%;
光學對中系統(tǒng):機械中心+光學中心雙定位全自動對中系統(tǒng);
測量時間:典型值<10秒;
測量精度:準確性、重復性Dv50均優(yōu)于±0.5%(NIST可溯源標準樣品);
測量方式:全自動測量
環(huán)境溫度:0°c~45°C;
環(huán)境濕度:10%~-85%相對濕度(無結凝);
電源要求:110V~240V(±20V),5OHz~60Hz;
執(zhí)行標準:GB/T19077-2016/ISO13320:2009;
外觀尺寸:700mm×495mm×300mm;
儀器重量:35kg。
適用范圍:
制藥行業(yè):用于藥物粉末的粒度控制,影響藥物的吸收速度和生物利用度。
化工行業(yè):在催化劑、涂料、塑料添加劑等產品的研發(fā)和生產中,粒度是一個關鍵參數(shù)。
礦物加工:如水泥、陶瓷等行業(yè)的原材料處理,粒度分布直接影響最終產品的性能。
食品工業(yè):如面粉、糖粉等食品原料的粒度控制,對產品的口感和質地有重要影響。
科研教育:高校和研究機構在材料科學、環(huán)境科學等領域的基礎研究。